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ICS 31.080.99 GE CCS L 59 中华人民共和国国家标准 GB/T 44849—2024/IEC 62047-14:2012 金属膜 微机电系统（MEMS）技术 材料成形极限测量方法 Micro-electromechanical systems (MEMS) technologyForming limit measuring method of metallic film materials (IEC 62047-14:2012, Semiconductor devices—Micro-electromechanical devicesPart 14: Forming limit measuring method of metallic film materials, IDT) 2024-10-26发布 2025-05-01实施 国家市场监督管理总局 发布 国家标准化管理委员会 GB/T 44849—2024/IEC 62047-14:2012 目 次 前言 范围 1 规范性引用文件 2 术语、定义和符号 3.1 术语和定义 3.2 符号 4试验方法 4.1 概述 设备 4.2 4.3 样品 试验过程与分析 5 5.1 试验过程 5.2 数据分析 6试验报告 附录 A （资料性） 成形极限图原理 附录 B （资料性） 栅格标记方法 B.1 概述 B.2 影印法 B.3 喷墨法 附录 C （资料性） 夹持方法 10 模压法 C.1 10 粘接法 C.2 11 附录D（资料性） 应变测量方法 12 参考文献 14 图 1 成形极限试验装置 六种长宽比的矩形样品 图 2 图 3 应变成形极限测量 图4 主应变和次应变成形极限图 图A.1 成形极限图 图A.2 成形极限测量用半球形冲头 图A.3 成形极限测量栅格图案 图A.4 不同长宽比样品的加载路径 图B.1 影印法标记栅格的步骤 I

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